ＰＶＤ（物理気相成長）：物質または分子を供給源から基板の表面に物理的プロセスによって転写するプロセス。 その機能は、特殊な特性（高強度、耐摩耗性、放熱性、耐食性など）を持ついくつかの粒子を性能の低い母体にスプレーさせることで、母体の性能を向上させることです。 ＰＶＤの基本方法：真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング（ホローカソードイオンプレーティング、ホットカソードイオンプレーティング、アークイオンプレーティング、活性反応性イオンプレーティング、高周波イオンプレーティング、ＤＣ放電イオンプレーティング）。
ＰＶＤコーティングフィルムは、ミクロンの厚さおよび一般的に０．３ミクロン〜５マイクロメートルの薄い厚さを有し、めっき後に処理される必要はない。
PVDコーティングでメッキすることができるフィルムの色：濃い黄金色、淡い黄金色、茶色、青銅色、グレー、黒、グレーブラック、7色。